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发明名称 Lithographic apparatus and device manufacturing method
摘要
申请公布号 EP1265106(A3) 申请公布日期 2005.01.05
申请号 EP20020253926 申请日期 2002.06.06
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 BUTLER, HANS
分类号 G03F7/20;(IPC1-7):G03F7/20;G03F9/00 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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