发明名称 导电通孔制作工艺
摘要 一种导电通孔制作工艺。首先,形成至少一贯孔于一基板上,且此贯孔连接基板的第一表面与第二表面。接着,形成一光致抗蚀剂层于基板的贯孔内壁、第一表面以及第二表面。然后,形成多个槽道于光致抗蚀剂层上,其中每一槽道是自第一表面经由贯孔内壁,而延伸至第二表面,且这些槽道分别暴露出部分贯孔内壁、部分第一表面以及部分第二表面。最后,将一导电材质填入在每一槽道内,以分别形成一导线,并移除光致抗蚀剂层。此导电通孔制作工艺可提供多重的信号连接路径。
申请公布号 CN1560912A 申请公布日期 2005.01.05
申请号 CN200410028292.6 申请日期 2004.03.09
申请人 威盛电子股份有限公司 发明人 何昆耀;宫振越
分类号 H01L21/48;H01L21/60;H05K3/42 主分类号 H01L21/48
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 陈小雯;李晓舒
主权项 1.一种导电通孔制作工艺,可制作多数个导线于单一贯孔中,该导电通孔制作工艺包括:提供一基板,其中该基板具有一第一表面以及对应的一第二表面;在该基板上形成该贯孔,且该贯孔连接该第一表面与该第二表面; 在该基板上形成一光致抗蚀剂层,且该光致抗蚀剂层覆盖该贯孔内壁、该第一表面以及该第二表面;在该光致抗蚀剂层上形成多个槽道,其中每一该各槽道自该第一表面经由该贯孔内壁,而延伸至该第二表面,且该各槽道分别暴露出部分该贯孔内壁、部分该第一表面以及部分该第二表面;在该些槽道内填入一导电材质,以形成该各导线,且该各导线分别自该第一表面经由该贯孔内壁,而延伸至该第二表面;以及移除该光致抗蚀剂层。
地址 台湾省台北县