发明名称 |
高电流离子植入机的监控芯片与用其监控充电现象的方法 |
摘要 |
本发明涉及一种监控高电流离子植入机的充电现象的方法,包括:放置所述监控芯片于所述高电流离子植入机台的一离子植入室中,其中所述监控芯片系由一半导体基底、一氧化层作为隔离层与一多晶硅层作为充电层组成。对所述监控芯片进行一既定条件的离子植入。将所述监控芯片进行回火。测量所述监控芯片上一既定多个位置的阻值。以及,判断所述监控芯片的平均阻值与标准差是否超过一既定标准范围。 |
申请公布号 |
CN1183584C |
申请公布日期 |
2005.01.05 |
申请号 |
CN02108130.1 |
申请日期 |
2002.03.27 |
申请人 |
旺宏电子股份有限公司 |
发明人 |
丁进国;廖晋熥 |
分类号 |
H01L21/425;H01L21/66;H01J37/302 |
主分类号 |
H01L21/425 |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 |
代理人 |
潘培坤;陈红 |
主权项 |
1.一种高电流离子植入机的监控芯片,其特征在于,所述监控芯片包括:一半导体基底;一隔离层,位于所述的半导体基底上;以及一充电层,位于所述的隔离层上,其中,当一高能电子导入所述监控芯片时,所述高能电子停滞于所述充电层中。 |
地址 |
台湾省新竹 |