| 发明名称 | 淬火装置 | ||
| 摘要 | 用于淬火热气流的装置，包括：(i)第一种导管装置，用于将所述热气体从上游源输送到下游位置；(ii)位于所述导管装置内的流动阻塞装置，用于在所述阻塞装置紧邻下游的所述热气流中产生低压区；(iii)位于所述流动阻塞装置下游的第二种导管装置，所述第二种导管装置与所述第一种导管装置以切向和以一个角度相交，所述第二种导管装置用于将淬火流体以足够的压力切向注入所述热气流中，该压力足以引起所述淬火流体在所述第一种导管装置的内表面周边流动并充满所述热气流的低压区，并与所述流动阻塞装置的下游面接触；和(iv)在所述流动阻塞装置的所述下游面上的界面装置，用于在所述热气流和所述淬火流体之间提供尖锐界面。该装置适宜地是与裂解炉的热气流相连的淬火区。 | ||
| 申请公布号 | CN1183224C | 申请公布日期 | 2005.01.05 |
| 申请号 | CN00805357.X | 申请日期 | 2000.03.23 |
| 申请人 | 国际壳牌研究有限公司 | 发明人 | R·J·老加西亚;D·Y－K·恩根;R·A·桑波恩;L·E·斯太因 |
| 分类号 | C10G9/00 | 主分类号 | C10G9/00 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王杰 |
| 主权项 | 1.用于淬火热气流的装置，包括(i)第一种导管装置，用于将热气体从上游源输送到下游位置；(ii)位于所述导管装置内直径周边上的流动阻塞装置，用于在所述阻塞装置紧邻下游的热气流中产生低压区；(iii)位于所述流动阻塞装置下游的第二种导管装置，所述第二种导管装置在所述低压区中与所述第一种导管装置以切向和以一个角度相交，所述第二种导管装置用于将淬火流体以足够的压力切向注入所述热气流中，该压力足以引起所述淬火流体在所述第一种导管装置的内表面周边流动并充满所述热气流的低压区，并与所述流动阻塞装置的下游面接触；和(iv)在所述流动阻塞装置的所述下游面上的界面装置，用于在所述热气流和所述淬火流体之间提供尖锐界面。 | ||
| 地址 | 荷兰海牙 | ||