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Die vorliegende Erfindung betrifft eine Abbildungsvorrichtung für die Abbildung des Lichtes einer Halbleiterlasereinheit (1) mit einer Mehrzahl von Emittern in eine Arbeitsebene, umfassend ein Kollimationsmittel (6) für die zumindest teilweise Kollimierung des von der Halbleiterlasereinheit (1) ausgehenden Lichtes in zumindest einer zur Ausbreitungsrichtung (Z) des Lichtes im Wesentlichen senkrechten Richtung (Y), Fokussiermittel für die zumindest teilweise Fokussierung oder Abbildung des zumindest teilweise kollimierten Lichtes in die Arbeitsebene, wobei die Abbildungsvorrichtung (2, 12) Lichtleitmittel (8, 13) umfasst, die eine Eintrittsfläche für aus den Kollimationsmitteln (6) austretendes Licht und eine Austrittsfläche aufweisen, aus der Licht zu den Fokussiermitteln austreten kann, und wobei die Abbildungsvorrichtung (2, 12) derart ausgebildet ist, dass in die Eintrittsfläche Licht aus mindestens zwei der Emitter eintreten kann. Weiterhin betrifft die vorliegende Erfindung eine Beleuchtungsvorrichtung mit einer derartigen Abbildungsvorrichtung.
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