| 发明名称 |
Lithographic projection apparatus and particle barrier for use therein |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
US6838684(B2) |
申请公布日期 |
2005.01.04 |
| 申请号 |
US20030644954 |
申请日期 |
2003.08.21 |
| 申请人 |
ASML NETHERLANDS BV |
发明人 |
BAKKER LEVINUS PIETER;SCHUURMANS FRANK JEROEN PIETER;BANINE VADIM YEVGENYEVICH |
| 分类号 |
G03F7/20;H01L21/027;(IPC1-7):G21G5/00 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
