薄膜电晶体之制作方法

摘要

一种薄膜电晶体之制作方法，系包括有在一基板上形成一闸电极，在闸电极上形成一闸绝缘层，在闸绝缘层上形成一非晶矽层，在一对应至闸电极的工作区域内，结晶化非晶矽层，藉以形成一多晶矽层，利用非晶矽的蚀刻率大于多晶矽的蚀刻率，对非晶矽层进行蚀刻，从而在工作区域内形成一多晶矽的半导体层，以及在半导体层上分别形成一源电极与一汲电极。