制造系统LCD用正型光阻组成物及光阻图型之形成方法POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURING SYSTEM LCD AND FORMATION METHOD OF RESIST PATTERN

摘要

本发明系提供一种，可形成形状良好的光阻图型，作为系统 LCD制造用为恰当之在一个基板上集成电路与液晶显示器部分所形成之LCD制造用正型光阻组成物及光阻图型形成方法。上述光阻组成物系，含有(A)硷可溶性树脂及(B)含二叠氮基化合物之正型光阻组成物，在形成光阻图型之际，使用该正型光阻组成物来形成光阻被膜，藉由进行选择性曝光后之加热(曝光后烘烤)处理，可在该光阻被膜表面形成表面难溶化层者。