| 摘要 |
发明名称：光阻图案乏形成方法本发明提供适合于系统LCD之制造，能抑止光阻图案尺寸之偏差的光阻图案之形成方法；此方法包含(1)将正型光阻组成物涂布于基板上，形成涂膜之步骤、(2)将上述形成涂膜之基板，施行加热(预热，PB)处理，在基板上形成光阻被膜之步骤、(3)在上述光阻被膜上，形成防反射膜之步骤、(4)使用对上述光阻被膜之2.0μm以下的光阻图案形成用，与2.0μm以上的光阻图案形成用，两者之描绘光罩图案的光罩，施行选择性曝光的步骤、(5)在上述选择性曝光后，将上述防反射膜去除之步骤、及(6)对上述选择性曝光后之光阻被膜，以硷水溶液施行显像处理的步骤。 |
