光阻下层膜材料及图型之形成方法

摘要

本发明之课题系提供多层光阻过程用，尤其是2层光阻过程用之光阻下层膜材料，尤其是相对于短波长之曝光，可作为优异防反射膜作用，亦即透明性高，具有最适n值，k值，而且基板加工中蚀刻耐性优异之光阻下层膜材料，以及使用该下层膜材料之微影术以在基板形成图形之方法。本发明之解决手段系，为微影术所用之多层光阻膜之光阻下层膜材料，其含有至少具有下述一般式(1)所示之重覆单元之聚合物为其特征之光阻下层膜材料。093115181-p01.bmp