发明名称 无电解镀金液
摘要 本发明之目的在于提供一种能制得表面无点蚀(pitting)的镀金被膜,而在进行焊接时能确保充分的焊接强度之无电解镀金液。该无电解镀金液的特征为:含有金之水溶性化合物,并含有作为还原剂之下述通式所示之羟基烷基磺酸或其盐、及胺化合物。093109714-p01.bmp(上述式中,R表示氢、羧基、或可具有取代基的苯基、基、饱和或不饱和烷基、乙醯基、丙酮基、啶基、以及喃基之任一种,X表示氢、Na、K、以及NH4之任一种,n为0至4之整数。)093109714-p01.bmp
申请公布号 TW200500496 申请公布日期 2005.01.01
申请号 TW093109714 申请日期 2004.04.08
申请人 日材料股份有限公司 发明人 伊森彻;日角义幸;藤平善久
分类号 C23C18/54 主分类号 C23C18/54
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项
地址 日本