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发明名称
无电解镀金液
摘要
本发明之目的在于提供一种能制得表面无点蚀(pitting)的镀金被膜,而在进行焊接时能确保充分的焊接强度之无电解镀金液。该无电解镀金液的特征为:含有金之水溶性化合物,并含有作为还原剂之下述通式所示之羟基烷基磺酸或其盐、及胺化合物。093109714-p01.bmp(上述式中,R表示氢、羧基、或可具有取代基的苯基、基、饱和或不饱和烷基、乙醯基、丙酮基、啶基、以及喃基之任一种,X表示氢、Na、K、以及NH4之任一种,n为0至4之整数。)093109714-p01.bmp
申请公布号
TW200500496
申请公布日期
2005.01.01
申请号
TW093109714
申请日期
2004.04.08
申请人
日材料股份有限公司
发明人
伊森彻;日角义幸;藤平善久
分类号
C23C18/54
主分类号
C23C18/54
代理机构
代理人
洪武雄;陈昭诚
主权项
地址
日本
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