发明名称 超低残余反射,低应力之透镜涂层及其制法
摘要 本发明提供一种以抗反射(AR)涂层涂覆光学透镜及其他光学物件之方法。此透镜具有低反射率,提供实质上白光反射且具有低应力AR涂层,及理想地适合使用提供低应力透镜基材之模塑步骤制造之光学透镜。在一个态样中,此方法使用特殊之涂层组成物,其中一种为高折射率组成物及另一种为低折射率组成物。在另一个态样中,此方法亦揭示使用光学监测器结合知蒸气沈积设备而使用光学参考透镜及测量反射光之特定光频率,然后使用此测量决定何时得到所需之光学涂层。在又进一步之态样中,此方法亦较佳为使用反射光中之蓝对绿对红色之指定比例计算各层之光学厚度。如果需要,则亦藉由调整各层之光学厚度控制AR涂层之应力,而使低折射率/高折射率层间之张力应力与压缩应力之差最小。
申请公布号 TW200500629 申请公布日期 2005.01.01
申请号 TW093114237 申请日期 2004.05.20
申请人 欧提玛股份有限公司 发明人 葛伦A 康尼格;尼古拉斯G 尼耶娄
分类号 G02B1/11 主分类号 G02B1/11
代理机构 代理人 何金涂;林荣琳
主权项
地址 美国