相位偏移空白光罩之制造方法及相位偏移光罩之制造方法以及相位偏移空白光罩及相位偏移光罩

摘要

本发明系关于一种相位偏移空白光罩之制造方法及相位偏移光罩之制造方法以及相位偏移空白光罩及相位偏移光罩；也就是说，本发明系提供一种相位偏移空白光罩之制造方法，其特征为：成为相位偏移空白光罩之制造方法，至少包含藉由溅镀法而在基板上成膜1层以上之相位偏移膜之制程，藉由前述溅镀法所造成之相位偏移膜之成膜系同时对于不同组成之复数个标靶来进行放电及成膜。可以藉此而简单地以要求之组成、要求之品质，来特别制造具有低缺陷之相位偏移膜之相位偏移空白光罩。