| 摘要 |
本发明提供一种防止或缓和过度除去感光性膜之现象之电子装置制造方法及适用该方法之电子装置。此外，提供一种防止或缓和接触于显像液之导电膜受到损伤之现象之电子装置制造方法及适用该方法之电子装置。进一步提供一种防止或缓和过度除去金属膜之现象之电子装置制造方法及适用该方法之电子装置。该电子装置制造方法具有以下步骤：在上述导电部所有体A之表面形成被覆膜100；在形成有上述被覆膜100之导电部所有体A上形成感光性膜110；使上述感光性膜110曝光成对应于上述凹部或凸部之图案之图案；使上述曝光之感光性膜显像；烘烤上述显像后之感光性膜；将上述烘烤过之感光性膜作为蚀刻掩模，来蚀刻上述被覆膜100；及在设有上述烘烤过之感光性膜与上述蚀刻过之被覆膜之导电部所有体A上，形成平坦化膜12。 |
