发明名称 具有抑制背反射杂光之光学次模组架构
摘要 本发明系一种有关于抑制背反射杂光之光学次模组设计之创新。此一新的光学次模组耦合架构系由一个光源、一个光波导与一个置于光源和光波导中间的耦光模组所组合而成;可有效避免背反射杂光对光源(如半导体雷射光源)所造成之干扰问题。此耦光模组由至少一个可透光元件所组成,可将光源发出的光束有效的导入光波导的核蕊层中,具有增长工作距离之功能,并可解决传统的光学次模组因中心轴位置偏移而产生之机构同心度问题,因此亦使得在制作光学次模组时更加容易,进而提升生产效能。这些优点除可大幅改善光学次模组本身之光电特性品质、提升使用此光学次模组的光收发模组之传输距离、以及大幅降低光收发模组在封装上的困难度外,亦可有效降低其生产成本提高良率。
申请公布号 TWI225947 申请公布日期 2005.01.01
申请号 TW092100640 申请日期 2003.01.13
申请人 创威光电股份有限公司 发明人 陈文宗;杨建成;张志贤;陈正大;张俊杰;李俊德;彭保仁
分类号 G02B6/24 主分类号 G02B6/24
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路一四八号十二楼
主权项 1.一种具有抑制背反射杂光之光学次模组架构,包括:一光源,系发射光束至光波导之核蕊层中;以及一光波导,系接收光源的光束,使该核蕊层再将光束继续向前传送;以及,一耦光模组,系由至少有一个可透光元件所构成,此耦光模组系置于光源与光波导中间,使光束穿过该耦光模组而有效地耦合至该光波导核蕊层中,并且有抑制背反射杂光的功能。2.如申请专利范围第1项所述之具有抑制背反射杂光之光学次模组架构,其中前述光源为一半导体元件。3.如申请专利范围第2项所述之具有抑制背反射杂光之光学次模组架构,其中前述半导体元件为半导体雷射及或发光二极体中之一项。4.如申请专利范围第1项所述之具有抑制背反射杂光之光学次模组架构,其中前述之光源所发出的光束可垂直或倾斜入射至耦光模组。5.如申请专利范围第1项所述之具有抑制背反射杂光之光学次模组架构,其中前述光源为一晶粒(chip)形式。6.如申请专利范围第1项所述之具有抑制背反射杂光之光学次模组架构,其中前述光源为一既晶粒封装形式(TO(Transmission optics) CAN形式)。7.如申请专利范围第1项所述之具有抑制背反射杂光之光学次模组架构,其中前述光学次模组架构为一同轴插拔式光学次模组(co-axial receptacle OSA)形式。8.如申请专利范围第1项所述之具有抑制背反射杂光之光学次模组架构,其中前述光学次模组架构为一牵引式或猪尾型光学次模组(pigtailed OSA)形式。9.如申请专利范围第1项所述之具有抑制背反射杂光之光学次模组架构,其中前述光学次模组架构为一蝶型光学次模组(Butterfly OSA)形式。10.如申请专利范围第1项所述之具有抑制背反射杂光之光学次模组架构,其中前述光学次模组架构为一矩型光学次模组(Dual In-line Package (DIP) OSA)形式。11.如申请专利范围第1项所述之具有抑制背反射杂光之光学次模组架构,其中耦光模组系由至少壹个透镜组、金属、塑胶及陶瓷元件所构成。12.如申请专利范围第11项所述之具有抑制背反射杂光之光学次模组架构,其中前述透镜组为可使波长介于0.2m-2.0m之光束穿透之所有材质。13.如申请专利范围第11项所述之具有抑制背反射杂光之光学次模组架构,其中前述之透镜组系一个平板(Plate)透镜。此平板透镜系倾斜一个角度且置于光源与光波导之间。14.如申请专利范围第13项所述之具有抑制背反射杂光之光学次模组架构,其中前述之平板透镜其表面具有抗反射镀膜(anti-reflection coating),抗反射镀膜之作用为抑制平板透镜表面产生的反射光以促使无反射光(或极少量反射光)返回光源。15.如申请专利范围第13项所述之具有抑制背反射杂光之光学次模组架构,其中前述之平板透镜其表面具有曲率(Curvature)以增加抑制背反射杂光的能力。16.如申请专利范围第11项所述之具有抑制背反射杂光之光学次模组架构,其中前述之透镜组为一个棱镜(Prism)透镜。此棱镜于面向光源处具有削角且置于光源与光波导之间。17.如申请专利范围第16项所述之具有抑制背反射杂光之光学次模组架构,其中前述之棱镜其表面具有抗反射镀膜,抗反射镀膜之作用为抑制棱镜表面产生的反射光以促使无反射光(或极少量反射光)返回光源。18.如申请专利范围第16项所述之具有抑制背反射杂光之光学次模组架构,其中前述之棱镜其表面具有曲率以增加抑制背反射杂光的能力。19.如申请专利范围第11项所述之具有抑制背反射杂光之光学次模组架构,其中前述之透镜组系置放于光源与光波导中间的一组可透光元件所组成,而相临的两个可透光元件其倾角方向相反。如此可将光束平直的导入光波导中且可十分有效地降低背反射杂光。20.如申请专利范围第19项所述之具有抑制背反射杂光之光学次模组架构,其中前述之一组可透光元件中至少一个可透光元件之表面具有抗反射镀膜。21.如申请专利范围第19项所述之具有抑制背反射杂光之光学次模组架构,其中前述之一组可透光元件中至少一个可透光元件之表面具有曲率以增加抑制背反射杂光的能力。图式简单说明:第1图系习用之光源与光波导间之耦合架构。第2图及第3图系习用于精简光耦合元件体积之改良型架构。图2为此一改良型架构的基本雏型。图3-乙、丙、丁为几种基于原先光波导架构之改良型设计。图3-甲、戊、己系几种于光波导本体上再衔接微小光学元件之设计。第4-1图系此一架构之基本雏型。第4-2图系以热扩散法所型成之大口径缓冲光波导架构。第5图系背反射光对半导体雷射光源造成背反射杂光之示意。第6图系习用有角度光纤之避免背反射杂光的架构。第7图系习用光隔绝器之避免背反射杂光的架构。第8-1-(a)图系使用倾斜光源来避免背反射杂光之架构。第8-1-(b)图系使用倾斜光源与未倾斜光源之架构时,光源与耦光搜寻区域半径相对关系之示意。第8-1-(c)图系使未倾斜光源之架构在耦光时,光源、耦光元组件、光波导、机械中心轴与耦光搜寻区域半径相对关系之示意。第8-1-(d)图系使倾斜光源之架构在耦光时,光源、耦光元组件、光波导、机械中心轴与耦光搜寻区域半径相对关系之示意。第8-2-(a)图系使用一平板透镜作为耦光元组件来抑制背反射杂光之新架构。第8-2-(b)图系使用一削角棱镜作为耦光元组件来抑制背反射杂光之另一新架构。第8-2-(c)图系使用二个平板透镜组合而成的透镜组作为耦光元组件来抑制背反射杂光之另一新架构。第8-3-(a)图为平板透镜。第8-3-(b)图为棱镜。第9图系在三种设计架构下之L-I光电特性曲线,分别是未加透镜设计架构(91),平板透镜设计架构(92),棱镜设计架构(93)。
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