发明名称 舌苔清除结构
摘要 本创作系关于一种舌苔清除结构改良,其系于板本体一端构成弧状垂直突出且具一定高度之刮板,本创作之特征在于:板本体在近刮板的位置间隔垂直突出设有若干数目之圆状刮体,该刮体系由板本体朝刮板方向斜升,使之具有椭圆形大面积之刮面,而此刮面则设有切孔,令该椭圆形刮面能同时以刮体外径及切孔内径交错进行两次刮除舌苔工作,以达事半功倍之效,且舌头能弹性回复于切孔及各刮体之间隙中,迳而大幅增进刮除舌苔之效果,其极具实用之价值。
申请公布号 TWM254192 申请公布日期 2005.01.01
申请号 TW092220193 申请日期 2003.11.14
申请人 陈亮光 发明人 陈亮光
分类号 A61B17/24 主分类号 A61B17/24
代理机构 代理人
主权项 1.一种舌苔清除结构改良,其主要具有一片状之板本体,该板本体自由端部位置间隔向上突设有圆状刮体,该刮体系朝板本体自由端方向斜升,使之具有椭圆形大面积之刮面,而此刮面中央设有切孔。2.如申请专利范围第1项所述舌苔清除结构改良,其两个刮体位在板本体中央、另两个刮体分别位在中央两侧,而呈十字状菱形设置状态,各刮体上设有同方向削斜之刮面,该刮面系朝板本体自由端方向斜升。3.如申请专利范围第1项所述舌苔清除结构改良,其切孔系贯穿板本体。4.如申请专利范围第1项所述舌苔清除结构改良,其板本体自由端设置刮板,该刮板系和刮体间隔设置,并呈一弧状垂直突出板本体,且具一定高度。5.如申请专利范围第1项所述舌苔清除结构改良,其板本体系容置于一收纳盒中。6.如申请专利范围第5项所述舌苔清除结构改良,其收纳盒系由上盖对合一下盖而组成,其于板本体另端设有枢孔,该枢孔可供上、下盖对合之枢轴穿枢。7.如申请专利范围第5项所述舌苔清除结构改良,其收纳盒系由上盖对合一下盖而组成,其于板本体另端设有枢孔,该枢孔可供上、下盖对合之枢轴穿枢,收纳盒一侧构成开放空间,该开放空间则对合一侧盖,此侧盖系枢设于收纳盒另端缘之轴心,并在侧盖相对上、下盖的位置设有卡缘、卡孔,使侧盖能闭合开放空间,并在侧盖上下两端突设有拉把。8.如申请专利范围第7项所述舌苔清除结构改良,其板本体在对应枢孔的外周位置间隔180度的位置设有定位块、嵌槽,当板本体旋出而和收纳盒呈一直线时,其定位块恰靠抵于下盖突设之限位杆,其侧盖在压入收纳盒后,其侧盖之端缘恰卡入嵌槽中。图式简单说明:第一图:系本创作之分解示意图。第二图:系本创作板本体之局部剖面示意图。第三图:系本创作之组合示意图。第四图:系本创作开启板本体之动作示意图。
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