| 主权项 |
1.一种具凹凸之光记录媒体制作用母盘之制造方法,其特征在于:具有在基板表面形成由与上述凹凸对应的细微图案所成的光阻层的制程;以该光阻层为罩幕,在上述基板表面藉由反应性离子蚀刻形成凹凸的第一蚀刻制程;及,该第一蚀刻制程后,对于上述基板进行氧离子蚀刻的第二蚀刻制程者。2.如申请专利范围第1项之具凹凸之光记录媒体制作用母盘之制造方法,其中藉由上述第二蚀刻制程使上述基板的表面粗糙度以rms(root mean square:均方根)计为0.3nm以下。3.如申请专利范围第1或2项之具凹凸之光记录媒体制作用母盘之制造方法,其中上述基板为石英基板。4.一种具凹凸之光记录媒体制作用压印模之制造方法,其特征在于:经由在基板表面形成由与上述凹凸对应的细微图案所成的光阻层的制程;以该光阻层为罩幕,在上述基板表面藉由反应性离子蚀刻形成凹凸的第一蚀刻制程;及,该第一蚀刻制程后,对于上述基板进行氧离子蚀刻的第二蚀刻制程,制作母盘,转印一次以上该母盘的凹凸而制作光记录媒体制作用压印模者。5.一种具凹凸之光记录媒体之制造方法,其特征在于:具有经由在基板表面形成与上述凹凸对应的细微图案的光阻层的制程;以该光阻层为罩幕,在上述基板表面藉由反应性离子蚀刻形成凹凸的第一蚀刻制程;及,该第一蚀刻制程后,对于上述基板进行氧离子蚀刻的第二蚀刻制程,而制作光记录媒体制作母盘的制程;转印一次以上此母盘而制作压印模的制程;利用该压印模形成具凹凸之光记录媒体基板的制程;及,在具有该光记录媒体基板的上述凹凸之面形成资讯记录层膜的制程者。图式简单说明:图1A、图1B、图1C为本发明光记录媒体制作用压印模之制造方法一例的各制程图(其一);图2A、图2B、图2C、图2D为本发明光记录媒体制作用之制造方法一例的各制程图(其二);图3A为显示氧离子蚀刻的蚀刻速率和离子入射角的关系之图,图3B为说明氧离子蚀刻的蚀刻形态的概略截面图;图4为显示氧离子蚀刻表面粗糙度和与氧离子蚀刻时间的关系的测量结果之图;图5为显示母盘制作的对于光阻的曝光光源波长和利用此母盘制作的光碟的最小坑长及磁轨间距的关系之图;以及图6为利用反应性离子蚀刻的乾式蚀刻形成的凹部概略截面图。 |
