发明名称 光束均匀器,雷射照射装置及制造半导体装置之方法
摘要 本发明提供光束均匀器,可形成在长轴方向有均匀能量分布的矩形光束点,而不用需要以高准确度制造的光学透镜。此外,本发明提供雷射照射装置,可照射在长轴方向有均匀能量分布的雷射光束。再者,本发明提供制造半导体装置的方法,可提高基底表面晶性并以高作业特性制造TFT。光束均匀器在表面上形成光束点,照入纵横比为10以上(最好100以上)的矩形点,包括在长轴方向使矩形光束点能量分布均匀的光波导。
申请公布号 TW200500666 申请公布日期 2005.01.01
申请号 TW093110371 申请日期 2004.04.14
申请人 半导体能源研究所股份有限公司 发明人 田中幸一郎;森若智昭
分类号 G02B6/10;G02B27/09 主分类号 G02B6/10
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本
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