| 主权项 |
1.一种形成用以实施多重分析物检定的固态装置 之方法,该装置包括基材及各自载有经共价键结到 该基材表面的配位子之衆多个别反应部位,其中在 基材表面各反应部位之间的区域对于分析物系惰 性;该方法包括下列步骤: 活化基材所有该表面; 将该活化表面与有机矽烷反应,该有机矽烷具有式 (RO)3Si-(CH2)n-X,其中各R为烃基,n为整数,且X为官能基 者,因而赋与该反应表面疏水性;及 于水中将一阵列的配位子施加到基材表面的个别 区域上使该配位子不施加至该反应部位间之该疏 水性区域;其中,该方法系用以观察分析物经结合 及/或未经结合的阵列部位并将该资讯与配位子相 配对者,及用以使用适合侦检来自化学发光反应的 光之背部照明型电荷偶合装置(CCD)进行造像,其中 要侦检的光所具波长系小于450奈米(nm)者。 2.根据申请专利范围第1项之方法,其中该基材的表 面系不均匀者。 3.根据申请专利范围第2项之方法,其中该基材包括 一阵列的反应通道,脊,柱,点,室,涡,洞或坑者。 4.根据申请专利范围第1项之方法,其中该基材系陶 瓷,玻璃,石英或矽者。 5.根据申请专利范围第1项之方法,其中该固态装置 具有小于1平方厘米之面积者。 6.根据申请专利范围第1项之方法,其中每一该反应 部位的面积小于一平方毫米者。 7.根据申请专利范围第1项之方法,其中该配位子的 施加系包括将经活化表面与有机矽烷接触之起始 步骤者。 8.根据申请专利范围第7项之方法,其中该方法包括 使用双官能交联剂以助于将生物配位子共价连接 到有机矽烷者。 9.根据申请专利范围第7项之方法,其中更包括使用 光不安定性交联剂与该具有亲核性或亲电子性末 端基的有机矽烷反应者。 10.根据申请专利范围1至9项任一项之方法,其中更 包括可结合住其存在会干扰分析物检定的物质之 配位子者。 11.根据申请专利范围第1项之方法,其中该等分析 物系选自激素,过敏反应标记物,滥用之药物,酵素 和胜者。 12.如申请专利范围第1项之方法,其中该基材为陶 磁。 图式简单说明: 第1图显示非均匀基材表面之形成; 第2图显示在基材表面上基团之化学活化; 第3图,第5图和第6图显示配位子在基材表面上的共 价固定化; 第4图显示在基材表面上使用乳胶粒子的情形; 第7图至第11图例举使用将本发明具体化的晶片( chips)之装置; 第12图至第14图为适合分析本发明装置所用的系统 之概示图;及 第15图显示出利用本发明检定分析物所用的校准 曲线。 |
