| 主权项 |
1.一种正型光阻组成物,其包括含以至少下述一般 式(I)之构成单位为共聚合成分之聚矽氧烷1,与具 有以酸分解而产生硷可溶性基之基的矽氧烷构造 单位之聚矽氧烷2, 一般式(I) (其中L系表示单键或伸芳基;A'系芳香环或脂环,表 示可以C1~C6烷基取代之环状烯环,可以C1~C6烷基取 代之降烷环或降烯环)。 2.如申请专利范围第1项之正型光阻组成物,其中一 般式(I)所示构造单位系为藉由使具胺基之矽烷化 合物与芳香族酸酐或脂环型酸酐反应所合成的单 聚物成分衍生者。 3.如申请专利范围第1项之正型光阻组成物,其中聚 矽氧烷1另含有以下述一般式(II)所示之硷可溶性 矽氧烷构造单位作为共聚合成分, 一般式(II) (其中,L'系-A-OCO-、-A-COO-、-A-NHCO-、-A-NHCOO-、-A- NHCONH-、-A-CONH-或-A-S-;A系单键或伸芳基;X系表示选 自C1~C6直链状烷基、C1~C6分枝状烷基、C6~C10之环烷 基、C6~C10伸芳基及C7~C11伸芳烷基其中一种之2价连 结基或2种以上结合而成之2价连结基;Z系 Y系氢原子、直链、支链或环状烷基、芳基或芳烷 基; l系1~3之整数;m系1~3;n系1~6之整数); 又,其中聚矽氧烷2系为具有一般式(II')所示之构造 单位以酸分解而产生硷可溶性基之基的矽氧烷构 造单位, 一般式(II') (其中,L'系至少一个选自-A-OCO-、-A-COO-、-A-NHCO-、-A -NHCOO-、-A-NHCONH-、-A-CONH-或-A-S-之2价连结基;A系单 键或伸芳基;X系表示选自C1~C6直链状烷基、C1~C6分 枝状烷基、C6~C10之环烷基、C6~C10伸芳基及C7~C11伸 芳烷基其中一种之2价连结基或2种以上结合而成 之2价连结基;Z系 R系以酸分解的基;Y系氢原子、直链、支链或环状 烷基、芳基或芳烷基;l系表示1~3之整数;m系1~3之整 数,n系表示1~6之整数)。 4.如申请专利范围第1项之正型光阻组成物,其中聚 矽氧烷1系另含有以下述一般式(III)所示之硷可溶 性矽氧烷构造单位作为共聚合成分, 一般式(III) (其中,L"系表示-B-OCO-、-B-COO-、-B-NHCO-、-B-NHCOO-、-B -NHCONH-、-B-CONH-或-B-S-;B系表示单键或伸芳基;X系表 示选自C1~C6直链状烷基、C1~C6分枝状烷基、C6~C10之 环烷基、C6~C10伸芳基及C7~C11伸芳烷基其中一种之2 价连结基或2种以上结合而成之2价连结基;n系表示 1~6之整数); 又,其中聚矽氧烷2系含有以下述一般式(III')所示 之构造单位作为具有以酸分解产生硷可溶性基之 基的矽氧烷构造单位, 一般式(III') (其中,L"系至少一种选自-B-OCO-、-B-COO-、-B-NHCO-、-B -NHCOO-、-B-NHCONH-、-B-CONH-或-B-S-之2价连结基;B系单 键或伸芳基;X系表示选自C1~C6直链状烷基、C1~C6分 枝状烷基、C6~C10之环烷基、C6~C10伸芳基及C7~C11伸 芳烷基其中一种之2价连结基或2种以上结合而成 之2价连结基;Q系酸分解性基;n系表示1~6之整数)。 5.如申请专利范围第1项之正型光阻组成物,其中聚 矽氧烷1系表示含有以一般式(II)所示之硷可溶性 矽氧烷构造单位与一般式(III)所示之硷可溶性矽 氧烷构造单位两者作为共聚合成分; 又,其中聚矽氧烷2系含有具有使一般式(II')所示之 构造单位与一般式(III')所示之构造单位两者以酸 分解产生硷可溶性基之基的矽氧烷单位。 6.一种正型光阻组成物,其包括 (a)如申请专利范围第1项之聚矽氧烷1、 (b)藉由曝光分解以产生酸之化合物、及 (c)分子内部份或全部所含的苯酚性羟基以藉由酸 分解的基保护的苯酚性化合物,或分子内部份或全 部所含的羧基以藉由酸分解的基保护的芳香族或 脂肪族羧酸化合物;或者,该组成物包括 (a)如申请专利范围第1项之酸分解性聚矽氧烷2,及 (b)藉由曝光分解产生酸之化合物。 7.如申请专利范围第6项之正型光阻组成物,其另含 有(c)至少部分分子内所含的苯酚性羟基以酸分解 性基保护的苯酚性化合物(c1),或至少部分分子内 所含的羧基以酸分解性基保护的芳香族或脂肪族 羧酸化合物。 8.一种正型光阻组成物,其包括至少含以下述一般 式(I')所示的构造单位为共聚合成分之硷可溶性聚 矽氧烷3, 一般式(I') (其中,L1系至少一种选自-A-OCO-、-A-COO-、-A-NHCO-、-A -NHCOO-、-A-NHCONH-、-A-CONH-、-A-OCONH-或-A-S-之2价连结 基;A系单键或伸芳基;X系表示选自C1~C6直链状烷基 、C1~C6分枝状烷基、C6~C10之环烷基、C6~C10伸芳基 及C7~C11伸芳烷基其中一种之2价连结基或2种以上 结合而成之2价连结基;n系1~6之整数)。 9.如申请专利范围第8项之正型光阻组成物,其中硷 可溶性聚矽氧烷3另含有以下述式(II")所示之构造 单位作为共聚合成分, 一般式(II') (其中,L1系至少一种选自-A-OCO-、-A-COO-、-A-NHCO-、-A -NHCOO-、-A-NHCONH-、-A-CONH-、-A-OCONH-或-A-S-之2价连结 基;A系单键或伸芳基;X系表示选自C1~C6直链状烷基 、C1~C6分枝状烷基、C6~C10之环烷基、C6~C10伸芳基 及C7~C11伸芳烷基其中一种之2价连结基或2种以上 结合而成之2价连结基;Z系 Y系氢原子、直链、支链或环状烷基、芳基或芳烷 基; l系1~3之整数;m系1~3之整数;n系1~6之整数)。 10.一种正型光阻组成物,其包括 (a)如申请专利范围第8项之聚矽氧烷3, (b)藉由曝光分解以产生酸之化合物,及 (c)分子内部份或全部所含的苯酚性羟基以藉由酸 分解的基保护的苯酚性化合物、或分子内部份或 全部所含的羧基以藉由酸分解的基保护的芳香族 或脂肪族羧酸化合物。 11.一种正型光阻组成物,其包括至少含下述一般式 (I")所示之构造单位之酸分解性聚矽氧烷4, 一般式(I") (其中,L1系至少一种选自-A-OCO-、-A-COO-、-A-NHCO-、-A -NHCOO-、-A-NHCONH-、-A-CONH-、-A-OCONH-或-A-S-之2价连结 基;A系单键或伸芳基;X系表示选自C1~C6直链状烷基 、C1~C6分枝状烷基、C6~C10之环烷基、C6~C10伸芳基 及C7~C11伸芳烷基其中一种之2价连结基或2种以上 结合而成之2价连结基;Q'系氢原子或酸分解性基, 惟于含有一般式(I")之聚矽氧烷中不可以全部Q'为 氢原子;n系表示1~6之整数)。 12.一种正型光阻组成物,其包括有含如申请专利范 围第11项之一般式(I")所示之构造单位,与下述一般 式(II"')所示构造单位两者之酸分解性聚矽氧烷4, 一般式(II"') (其中,L1系至少一种选自-A-OCO-、-A-COO-、-A-NHCO-、-A -NHCOO-、-A-NHCONH-、-A-CONH-、-A-OCONH-或-A-S-之2价连结 基;A系单键或伸芳基;X系表示选自C1~C6直链状烷基 、C1~C6分枝状烷基、C6~C10之环烷基、C6~C10伸芳基 及C7~C11伸芳烷基其中一种之2价连结基或2种以上 结合而成之2价连结基;Z"系 R'系氢原子或以酸分解之基;Y系表示氢原子、直链 、支链或环状烷基、芳基或芳烷基;1系表示1~3之 整数;m系1~3之整数;n系1~6之整数)。 13.一种正型光阻组成物,其包括 (a)如申请专利范围第11项之聚矽氧烷4, (b)藉由曝光分解产生酸之化合物。 14.如申请专利范围第13项之正型光阻组成物,其另 含有(c)至少部分分子内所含的苯酚性羟基以酸分 解性基保护的苯酚性化合物(c1),或至少部分分子 内所含的羧基以酸分解性基保护的芳香族或脂肪 族羧酸化合物。 |
