| 发明名称 |
PROCEDE DE FORMATION D'UN CONTACT AUTO-ALIGNE DANS UN DIPOSITIF A SEMICONDUCTEUR |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
FR2773417(B1) |
申请公布日期 |
2004.12.31 |
| 申请号 |
FR19990000017 |
申请日期 |
1999.01.05 |
| 申请人 |
SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD |
发明人 |
CHANG HYUN CHO;HONG SIK JEONG;JAE GOO LEE;CHANG JIN KANG;SANG SUP JEONG;CHUL JUNG;CHAN OUK JUNG |
| 分类号 |
H01L21/768;H01L21/311;H01L21/60;H01L21/8242;H01L27/108;(IPC1-7):H01L21/28 |
主分类号 |
H01L21/768 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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