| 发明名称 |
APPARATUS FOR EXPOSING PHOTO-ETCH RESISTS USED IN PROCESSES OF PRODUCING DELAY LINES WITH ACOUSTIC SURFACE WAVE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
PL60979(Y1) |
申请公布日期 |
2004.12.31 |
| 申请号 |
PL20000111288U |
申请日期 |
2000.08.08 |
| 申请人 |
INSTYTUT TELE- I RADIOTECHNICZNY |
发明人 |
WEISS KRZYSZTOF;SWIDERSKI MAREK;GAWOR SYLWESTER |
| 分类号 |
G03F7/20;H01J61/72;H01L21/027;H01L45/02;(IPC1-7):H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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