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发明名称 High-density plasma processing apparatus
摘要
申请公布号 US2004261720(A1) 申请公布日期 2004.12.30
申请号 US20040843430 申请日期 2004.05.12
申请人 TOLMACHEV YURI NIKOLAEVICH;NAVALA SERGIY YAKOVLEVICH;MA DONG-JOON;KIM DAE-IL 发明人 TOLMACHEV YURI NIKOLAEVICH;NAVALA SERGIY YAKOVLEVICH;MA DONG-JOON;KIM DAE-IL
分类号 H05H1/46;C23C16/00;H01J37/32;H01L21/00;H01L21/205;H01L21/3065;H05H1/00;(IPC1-7):C23C16/00 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
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