发明名称 | 一种低损耗微波介质陶瓷 | ||
摘要 | 本发明的低损耗微波介质陶瓷是以SrO、Re<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>及Ga<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>组合而成的表达式为xSrO·yRe<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>·zGa<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>的微波介质陶瓷,其中,Re是La或Nd,各成分的含量分别是:设SrO的含量为x,Re<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>的含量为y,Ga<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>的含量为z,45.0摩尔%≤x≤55.0摩尔%,20.0摩尔%≤y≤30.0摩尔%,20.0摩尔%≤z≤30.0摩尔%,x+y+z=100%。该微波介质陶瓷的介电常数为18-23,Qf值高达65,000~218,000GHz,同时具有近零谐振频率温度系数。 | ||
申请公布号 | CN1557770A | 申请公布日期 | 2004.12.29 |
申请号 | CN200410015903.3 | 申请日期 | 2004.01.14 |
申请人 | 浙江大学 | 发明人 | 陈湘明;刘小强;肖洋 |
分类号 | C04B35/01;H01B3/12 | 主分类号 | C04B35/01 |
代理机构 | 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人 | 韩介梅 |
主权项 | 1.一种低损耗微波介质陶瓷,其特征在于它是以SrO、Re2O3及Ga2O3组合而成的表达式为xSrO.yRe2O3.zGa2O3的微波介质陶瓷,其中,Re是La或Nd,各成分的含量分别是:设SrO的含量为x 45.0摩尔%≤x≤55.0摩尔%, Re2O3的含量为y 20.0摩尔%≤y≤30.0摩尔%, Ga2O3的含量为z 20.0摩尔%≤z≤30.0摩尔%,x+y+z=100%。 | ||
地址 | 310027浙江省杭州市西湖区玉古路20号 |