| 发明名称 | 微孔化学机械抛光垫 | ||
| 摘要 | 公开了一种在其抛光表面上具有所需截面积和所需深度微孔的化学机械抛光垫。微孔的形状、大小和分布密度可以优化调节。此化学机械抛光垫在抛光过程中能够有效地保持所需的抛光速率。根据本发明，微孔能够按照所给出的加工条件具有不同的排列。 | ||
| 申请公布号 | CN1559082A | 申请公布日期 | 2004.12.29 |
| 申请号 | CN01823680.4 | 申请日期 | 2001.08.29 |
| 申请人 | 株式会社SKG | 发明人 | 朴仁河;权太庆;金载晰 |
| 分类号 | H01L21/304 | 主分类号 | H01L21/304 |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 周承泽 |
| 主权项 | 1.一种化学机械抛光垫，在其抛光表面上形成具有所需深度和所需均匀截面积的微孔。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道水原市 | ||