发明名称 |
光产生电力装置的制造方法 |
摘要 |
一种光产生电力装置的制造方法,该装置是在具备绝缘表面的基板上设第一电极层、半导体光活性层及透明导电层,该制造方法依序包括如下步骤:(1)于基板形成第一电极层及半导体光活性层;(2)于绝缘表面形成透明导电膜;(3)将透光性保护膜配置在上述发电区域的之透明导电膜上;(4)照射紫外线激光,去除未以上述透光性保护膜遮罩部位的透明导电膜;(5)保留上述透光性保护膜。本发明可以使光产生电力装置的可靠性提高。 |
申请公布号 |
CN1182592C |
申请公布日期 |
2004.12.29 |
申请号 |
CN00130373.2 |
申请日期 |
2000.11.02 |
申请人 |
三洋电机株式会社 |
发明人 |
塙平信夫;若宫要範;主藤秀和;森博幸;小野雅义;篠原亘;山本惠章 |
分类号 |
H01L31/18;H01L31/04 |
主分类号 |
H01L31/18 |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 |
代理人 |
李树明 |
主权项 |
1.一种光产生电力装置的制造方法,该装置是在具备绝缘表面的基板上的发电区域层叠设有第一电极层、半导体光活性层及透明导电层,其特征在于:该制造方法依序包括如下步骤:(1)于上述基板的绝缘表面上的发电区域形成上述第一电极层及于上述基板的整个面上形成半导体光活性层;(2)于包含上述半导体光活性层在内的绝缘表面的整面上,形成用来构成上述透明导电层的透明导电膜;(3)将可透过可见光但无法透过紫外光的图案化透光性保护膜配置在上述发电区域的透明导电膜上作为掩膜材料;及(4)于上述基板的整面上照射紫外线激光,以去除未以上述透光性保护膜作掩膜的部位的透明导电膜,而形成上述透明导电层;(5)于上述步骤后保留上述透光性保护膜。 |
地址 |
日本大坂府 |