四束光曝光装置

摘要

本实用新型涉及一种用四束光干涉制备三维光子晶体的装置。设有激光器、扩束与空间滤波器、准直透镜、光栅版和全息记录干版，光栅版对扩束后的平行光形成4束光干涉。采用很少的光学元件，只需单束激光和一个光栅版就能产生四束光，并以期望的方向运行。四束光汇合后在自由空间互相干涉，产生了光强度周期性变化的三维图形。用光敏材料将图形记录下来，就在材料中产生了折射率周期性变化的三维晶格结构。只要晶格结构中的二种折射率之比足够大，就能产生光子禁带，该材料就能用做光子晶体。如果用光刻胶版做记录材料，亦可将记录下的结构当作模版，用高折射率材料翻制成光子晶体。而且其制备过程简单。

主权项

1、四束光曝光装置，其特征在于设有激光器，在激光器输出激光的光路上依次设有1个扩束与空间滤波器、1个准直透镜、1个光栅版和1块全息记录干版，所说的光栅版对扩束后的平行光形成4束光干涉。