发明名称 NOVEL AIR BRIDGE PROCESS FOR FORMING AIR GAPS
摘要
申请公布号 SG107557(A1) 申请公布日期 2004.12.29
申请号 SG20000006248 申请日期 2000.10.31
申请人 CHARTERED SEMICONDUCTOR MANUFACTURING LTD 发明人 SIMON CHOOI;ZHOU MEI-SHENG;XU YI
分类号 H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/00 主分类号 H01L21/768
代理机构 代理人
主权项
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