发明名称 |
光栅分光系统 |
摘要 |
本发明公开了一种光栅分光系统,包括刻有若干条闪耀角为θ的刻痕的透射式闪耀光栅和微透镜,所述微透镜为微透镜阵列,在所述闪耀角为θ的若干条刻痕下还依次刻有若干条至少一种不同闪耀角的刻痕,这些刻痕组成一组,若干组这种组合呈条状并纵向排列或呈段状并呈四方连状排列,所述微透镜阵列呈条状并纵向排列或呈段状并呈四方连状排列。利用这种分光系统能够得到特定波长的光强分布图像,且单色光的能量集中,谱线宽度窄,并可得到多幅特定波长的光强分布图像,本发明所述分光系统可广泛应用于红外线或紫外线等探测成像和摄像、显示等其它分光系统中。 |
申请公布号 |
CN1181375C |
申请公布日期 |
2004.12.22 |
申请号 |
CN02134119.2 |
申请日期 |
2002.11.20 |
申请人 |
吴韦建 |
发明人 |
吴韦建 |
分类号 |
G02B27/10;G02B27/42;G02B3/08;G02B5/18 |
主分类号 |
G02B27/10 |
代理机构 |
成都虹桥专利事务所 |
代理人 |
杨冬 |
主权项 |
1、一种光栅分光系统,包括刻有若干条闪耀角为θ的刻痕的透射式闪耀光栅和微透镜,所述微透镜为微透镜阵列,其特征在于:在所述闪耀角为θ的若干条刻痕下还依次刻有若干条至少一种不同闪耀角的刻痕,这些刻痕组成一组,若干组这种组合呈条状并纵向排列,所述微透镜阵列呈条状并纵向排列。 |
地址 |
610000四川省成都市成华区建设北路二段4号附5号 |