涂层工件的制造方法、方法的应用及其装置

摘要

本方法的特征在于，工件上能涂覆符合外延质量的涂层，而且淀积速度明显增加。为此目的，本发明采用DC等离子体放电的PECVD方法代替UHV-CVD或ECR-CVD方法。

主权项

1、制备涂覆工件的方法，包括(a)将反应性气体引入到其中具有所述工件的排空的接受器中；(b)在所述接受器中产生低压等离子体放电；(c)用作为电子源的所述放电使所述的反应性气体电离，以此通过与所述低压等离子体放电无关地加热工件维持所述工件的温度；(d)用所述电离的产物以最小300/min的生长速率PECVD涂覆所述的工件，和(e)在低于15eV的所述涂覆期间，在所述工件建立离子能量，以此用外延涂覆质量涂覆所述的工件。