| 主权项 |
1.一种侦测交替相移式光罩之相位及振幅误差的方法,其包含:将一平行光束穿过该相移式光罩的一组相邻、相位移动的开孔;以角度位置的函数纪录穿过该组相邻开孔的绕射光线的光束强度;由该纪录光束强度决定在第一绕射级数及第二绕射级数发生时的角度,其中系代表来自一组对称分布绕射级数的偏移量;以及由该纪录光束强度决定最小强度及最大强度;其中该相位误差系由所决定的数値计算而得,而且该振幅误差系由该最小强度及该最大强度计算而得。2.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该相位误差系藉由一深度误差加以表示,该深度误差系使用、光罩穿透层的折射系数及介于该组相邻开孔间的中心分隔距离计算而得。3.如申请专利范围第2项所述之方法,其中该深度误差d系根据下列方程式而计算:=d(n-1)/p;其中n系该折射系数,p系该中心分隔距离。4.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该振幅误差系由该最小强度及该最大强度间的比率而决定。5.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该角度、该最小强度及该最大强度系由该纪录光束强度所绘制的绕射曲线的角度分布而决定。6.一种侦测交替相移式光罩之相位/振幅误差的方法,该方法系包括:将一平行光束穿过该相移式光罩的一组相邻、相位移动的开孔;以角度位置的函数纪录穿过该组相邻开孔的绕射光线的光束强度,该光束强度进一步用来绘制相对于一等半径弧度的绕射曲线之角度分布,而且该等半径弧度系对于该组相邻开孔间的中心线;对于该绕射曲线的角度分布决定在第一绕射级数及第二绕射级数发生时的角度,其中系代表来自一组对称分布绕射级数的偏移量;以及由该绕射曲线的角度分布决定一最小强度及一最大强度;其中该相位误差系由所决定的数値计算而得,而且该振幅误差系由该最小强度及该最大强度计算而得。7.如申请专利范围第6项所述之方法,其中该光束强度系藉由一光侦测器所纪录。8.如申请专利范围第7项所述之方法,其中该光侦测器系穿越该等半径圆弧。9.如申请专利范围第6项所述之方法,其中该相位误差系藉由一深度误差加以表示,该深度误差系使用、光罩穿透层的折射系数及介于该组相邻开孔间的中心分隔距离计算而得。10.如申请专利范围第9项所述之方法,其中该深度误差d系根据下列方程式而计算:=d(n-1)/p;其中n系该折射系数,p系该中心分隔距离。11.如申请专利范围第6项所述之方法,其中该振幅误差系由该最小强度及该最大强度间的比率而决定。12.如申请专利范围第6项所述之方法,其中该平行光束系以垂直角度入射至该光罩。13.一种侦测交替相移式光罩之相位/振幅误差的系统,该系统包括:一光源,用来侦测穿过该相移式光罩的一组相邻、相位移动之开孔的一平行光束;一光侦测器,透过以该组相邻开孔的中心线相关的等半径圆弧,用来侦测穿过该组相邻开孔的绕射光线的光束强度;以及一测试装置,用来以角度位置的函数纪录该光束强度,该测试装置进一步使用该光束强度用来绘制一绕射曲线的角度分布;其中该相位误差及振幅误差系由该绕射曲线的角度分布而决定。14.如申请专利范围第13项所述之系统,其中该光侦测器系设定于一具角度平台,该具角度平台系相对于一等半径圆弧可移动调整。15.如申请专利范围第13项所述之系统,其中该测试装置系进一步包括一电脑处理装置,用于由该绕射曲线的角度分布决定在第一绕射级数及第二绕射级数发生时的角度,其中系代表来自一组对称分布绕射级数的偏移量。16.如申请专利范围第15项所述之系统,其中该电脑处理装置系使用、该光罩穿透层的折射系数及介于该组相邻开孔间的中心分隔距离而计算一深度误差,其系根据下列方程式而计算:=d(n-1)/p;其中n系该折射系数,p系该中心分隔距离。17.如申请专利范围第15项所述之系统,其中该电脑处理装置系由来自该绕射曲线的角度分布的最小强度及最大强度间的比率而决定该振幅误差。18.如申请专利范围第13项所述之系统,其中该光侦测器系进一步包括一圆孔侦测器。图式简单说明:第1图系本发明的检测系统10之概略图;第2图系显示本发明的交替相移式光罩之侦测相位及振幅误差的方法之方块图;第3图系一概略图,而且显示当没有相位误差出现时,穿过交替相移式光罩的一组相邻开孔的光束之对称分布绕射级数;第4图系一概略图,而且显示当相位误差出现时,穿过交替相移式光罩的一组相邻开孔的光束的对称分布绕射级数之偏移量;及第5图系典型的强度相对角度图而且由第2图的方法所产生,当相位误差及振幅不匹配两者存在于该交互相移式光罩的已知位置时,特别显示绕射的角度分布。 |
