| 主权项 |
1.一种苯乙烯系树脂薄膜,其特征系被亲水化处理 之苯乙烯系树脂薄膜基材之两面,于其处理面两面 被附着至少含有带静电防止剂与外部润滑剂之组 成物苯乙烯系树脂薄膜者,该薄膜基材表面(A)之表 面张力()与该表面(A)之反面表面(B)之表面张力( )比(/)为1.15-1.72者,且,表面张力()为350N/ cm-450N/cm,表面张力()为400N/cm-600N/cm者,表 面(B)上组成物之附着量为表面(A)之组成物附着量 之25-95重量%,其中该附着于薄膜基材表面(A)及薄膜 基材表面(B)之组成物以含界面活性剂做为带静电 防止剂,含无机微粒子做为外部润滑剂,更含有水 溶性高分子者。 2.一种苯乙烯系树脂薄膜,其特征系被亲水化处理 之苯乙烯系树脂薄膜基材之两面,于其处理面两面 被附着至少含有带静电防止剂与外部润滑剂之组 成物苯乙烯系树脂薄膜者,该薄膜基材表面(A)之表 面张力()与该表面(A)之反面表面(B)之表面张力( )比(/)为1.15-1.72者,且,表面张力()为350N/ cm-450N/cm,表面张力()为400N/cm-600N/cm者,表 面(B)上组成物之附着量为表面(A)之组成物附着量 之25-95重量%,其中该附着于薄膜基材表面(A)及薄膜 基材表面(B)之组成物以含有界面活性剂做为带静 电防止剂,含下式(1)结构之聚醚变性聚矽氧做为外 部润滑剂,更含有水溶性高分子者, 式(1)中,R1为氢原子或碳数1-4之低级烷基,m=0-40之整 数,n=1-20之整数,m+n=1-60之整数,n/(n+m)=0.2-1.0,a=5~15之 整数,b=0-15之整数,a+b=5-60之整数,a:b之比率为100:0- 100:50者。 3.一种苯乙烯系树脂薄膜,其特征系被亲水化处理 之苯乙烯系树脂薄膜基材之两面,于其处理面两面 被附着至少含有带静电防止剂与外部润滑剂之组 成物苯乙烯系树脂薄膜者,该薄膜基材表面(A)之表 面张力()与该表面(A)之反面表面(B)之表面张力( )比(/)为1.15-1.72者,且,表面张力()为350N/ cm-450N/cm,表面张力()为400N/cm-600N/cm者,表 面(B)上组成物之附着量为表面(A)之组成物附着量 之25-95重量%,其中该附着于薄膜基材表面(A)及薄膜 基材表面(B)之组成物以含有下式(2)结构之聚环氧 乙烷烷基胺或下式(3)结构之聚环氧乙烷聚环氧丙 烷二醇醚做为带静电防止剂,以含有(a)下式(1)结构 之聚醚变性聚矽氧做为外部润滑剂者, 式(1)中,R1为氢原子或碳数1-4之低级烷基,m=0-40之整 数,n=1-20之整数,m+n=1-60之整数,n/(n+m)=0.2-1.0,a=5-15之 整数,b=0-15之整数,a+b=5-60之整数,a:b之比为100:0-100: 50者, 式(2)中,R2为碳数8-22之烷基,x=1-20之整数,y=1-20之整 数者, 式(3)所代表之化合物中,d之重覆单位与f之重覆单 位合计重量占总分子中之40-95%者。 4.如申请专利范围第1项之苯乙烯系树脂薄膜,其中 该薄膜基材之两表面其表面粗细度参数之中心线 平均値均为0.4-2.2m之范围者。 5.如申请专利范围第1项之苯乙烯系树脂薄膜,其系 于苯乙烯系树脂薄膜基材之两面被亲水化处理,其 处理面两面被附着至少含带静电防止剂与外部润 滑剂组成物之苯乙烯系树脂薄膜者,薄膜基材表面 (A)之表面张力()与该表面(A)反面之薄膜基材表 面(B)之表面张力()比之(/)为1.15-1.72,且,表面 张力()为350N/cm-450N/cm,表面张力()为400N/ cm-600N/cm者,薄膜基材表面(A)之附着组成物量为4. 5mg/m2-30mg/m2、薄膜基材表面(B)之附着组成物量为2. 0.mg/m2-15mg/m2之苯乙烯系树脂薄膜,该组成物所附着 之表面(A′)与纸之接着时间以及该表面(A′)与反 面薄膜表面(B′)与纸之接着时间之差为1.0秒以上, 且,该表面(B′)与纸之接着时间为30秒以下者。 6.如申请专利范围第3项之封口粘贴用苯乙烯系树 脂薄膜,其中该附着于薄膜基材表面(A)及薄膜基材 表面(B)之组成物之(a)下式(1)结构之聚醚变性聚矽 氧为85-10重量%及(b)下式(2)结构之聚环氧乙烷烷基 胺或聚环氧乙烷聚环氧丙烷二醇醚为15-90重量%之 组成物所成者,薄膜基材表面(A)及(B)分别附着2-30mg /m2,薄膜之该组成物所附着之两表面针对金属其高 速动态摩擦系数为0.15-0.35,于20℃相对湿度20%之带 静电压减衰半衰期为60秒以下者, 式(1)中,R1为氢原子或碳数1-4之低级烷基,m=0-40之整 数,n=1-20之整数,m+n=1-60之整数,n/(n+m)=0.2-1.0,a=5-15之 整数,b=0-15之整数,a+b=5-60之整数,a:b之比为100:0-100: 50, 式(2)中,R2为碳数8-22之烷基,x=1-20之整数,y=1-20之整 数, 式(3)所代表之化合物中,d之重覆单位与f之重覆单 位之合计重量占总分子之40-95%者。 7.如申请专利范围第1项之苯乙烯系树脂薄膜,其系 使薄膜基材表面(A)之表面张力()为400-600N/cm, 使薄膜基材表面(B)之表面张力()为350-450N/cm, 且,表面张力比(/)为1.15-1.72进行亲水化处理后 ,于该表面(A)进行至少含带静电防止剂与外部润滑 剂之组成物溶液之涂工,乾燥之后,使苯乙烯系树 脂薄膜呈辊筒状卷取,将表面(A)之组成物复制于表 面(B)者。 8.如申请专利范围第2项之苯乙烯系树脂薄膜,其系 使薄膜基材表面(A)之表面张力()为400-600N/cm, 使薄膜基材表面(B)之表面张力()为350-450N/cm, 且,表面张力比(/)为1.15-1.72进行亲水化处理后 ,于该表面(A)进行至少含带静电防止剂与外部润滑 剂之组成物溶液之涂工,乾燥之后,使苯乙烯系树 脂薄膜呈辊筒状卷取,将表面(A)之组成物复制于表 面(B)者。 9.如申请专利范围第3项之苯乙烯系树脂薄膜,其系 使薄膜基材表面(A)之表面张力()为400-600N/cm, 使薄膜基材表面(B)之表面张力()为350-450N/cm, 且,表面张力比(/)为1.15-1.72进行亲水化处理后 ,于该表面(A)进行至少含带静电防止剂与外部润滑 剂之组成物溶液之涂工,乾燥之后,使苯乙烯系树 脂薄膜呈辊筒状卷取,将表面(A)之组成物复制于表 面(B)者。 |
