发明名称 应用于光学轨迹导航元件之次画素位移量侦测方法
摘要 一种应用于光学轨迹导航元件之次画素位移量侦测方法,系以泰勒展示的一阶偏微分函数所建立之连立方程式来计算位移量。该侦测方法包含下列步骤:撷取第一张影像与第二张影像;选取复数个影像点作为计算参考点;根据前述第一张影像与第二张影像计算出前述计算参考点之泰勒展示的一阶偏微分函数之偏微分量,以产生复数个二元一次方程式;以及根据前述复数个二元一次方程式计算次画素位移量。而计算参考点可为符合影像亮度的变化是单调性且亮度的变化大于一临界值之考靠点。同时,可将计算参考点分类,并将其各类系数加总来计算位移量,藉以抑制杂讯。
申请公布号 TWI225622 申请公布日期 2004.12.21
申请号 TW092129500 申请日期 2003.10.24
申请人 凌阳科技股份有限公司 发明人 辜维欣;林焜尉;林俊宏
分类号 G06K9/46;G06F17/10 主分类号 G06K9/46
代理机构 代理人 叶信金 新竹市武陵路二七一巷五十七弄十号六楼
主权项 1.一种应用于光学轨迹导航元件之次画素位移量 侦测方法,系包含下列步骤: 撷取第一张影像与第二张影像; 选取复数个影像点作为计算参考点; 根据前述第一张影像与第二张影像计算出前述计 算参考点之泰勒展示的一阶偏微分函数之偏微分 量,以产生复数个二元一次方程式;以及 根据前述复数个二元一次方程式计算次画素位移 量。 2.如申请专利范围第1项所记载之应用于光学轨迹 导航元件之次画素位移量侦测方法,其中前述参考 点之泰勒展示的一阶偏微分函数为: 其中,Ir(x,y)为第一张影像之计算参考点之像素亮 度、Is(x,y)为第二张影像之计算参考点之像素亮度 、x为x方向位移量、y为y方向位移量、 为x偏微分量、以及 为y偏微分量。 3.如申请专利范围第2项所记载之应用于光学轨迹 导航元件之次画素位移量侦测方法,其中前述一阶 偏微分函数之x偏微分量为x方向之像素亮度的变 化量,可表示为: 4.如申请专利范围第2项所记载之应用于光学轨迹 导航元件之次画素位移量侦测方法,其中前述一阶 偏微分函数之y偏微分量为y方向之像素亮度的变 化量,可表示为: 5.如申请专利范围第1项所记载之应用于光学轨迹 导航元件之次画素位移量侦测方法,其中前述根据 前述复数个二元一次方程式计算次画素位移量步 骤中,系选择两条二元一次方程式计算次画素位移 量。 6.如申请专利范围第1项所记载之应用于光学轨迹 导航元件之次画素位移量侦测方法,其中前述根据 前述复数个二元一次方程式计算次画素位移量步 骤中,系选择两条以上之二元一次方程式计算出复 数组解,再求其平均値作为次画素位移量。 7.如申请专利范围第2项所记载之应用于光学轨迹 导航元件之次画素位移量侦测方法,其中前述计算 参考点系符合影像亮度的变化是单调性且亮度的 变化大于一临界値。 8.如申请专利范围第7项所记载之应用于光学轨迹 导航元件之次画素位移量侦测方法,其中前述计算 参考点系符合下列式子: (Ir(x+1,y)-Ir(x,y).(Ir(x,y)-Ir(x-1,y))>0 ∣Ir(x+1,y)-Ir(x,y)∣>Ith ∣Ir(x,y)-Ir(x-1,y)∣>Ith (Ir(x,y+1)-Ir(x,y)).(Ir(x,y)-Ir(x,y-1))>0 ∣Ir(x,y+1)-Ir(x,y)∣>Ith ∣Ir(x,y)-Ir(x,y-1)∣>Ith 其中,Ith为临界値。 9.如申请专利范围第2项或第7项所记载之应用于光 学轨迹导航元件之次画素位移量侦测方法,其中前 述计算参考点系分为三类计算参考点,第一类计算 参考点为x方向之像素亮度的变化量大于y方向之 像素亮度的变化量的一定比例,第二类计算参考点 为y方向之像素亮度的变化量大于x方向之像素亮 度的变化量的一定比例,以及第三类计算参考点为 不属于第一类计算参考点与第二类计算参考点之 其余计算参考点。 10.如申请专利范围第9项所记载之应用于光学轨迹 导航元件之次画素位移量侦测方法,其中前述第一 类计算参考点符合下式: ∣Ixr(x,y)∣>2│Iyr(x,y)│ 其中,│Ixr(x,y)│为x方向之像素亮度的变化量、而 │Iyr(x,y)│为y方向之像素亮度的变化量、以及 为倍数常数。 11.如申请专利范围第9项所记载之应用于光学轨迹 导航元件之次画素位移量侦测方法,其中前述第二 类计算参考点符合下式: │Iyr(x,y)│>2│Ixr(x,y)│ 其中,│Ixr(x,y)│为x方向之像素亮度的变化量、而 │Iyr(x,y)│为y方向之像素亮度的变化量、以及 为倍数常数。 12.如申请专利范围第9项所记载之应用于光学轨迹 导航元件之次画素位移量侦测方法,还包含下列步 骤: 将第一类计算参考点之二元一次方程式的系数相 加,并产生第一类二元一次方程式; 将第二类计算参考点之二元一次方程式的系数相 加,并产生第二类二元一次方程式; 将第三类计算参考点之二元一次方程式的系数相 加,并产生第三类二元一次方程式;以及 根据前述第一类二元一次方程式、第二类二元一 次方程式、以及第三类二元一次方程式求出前述 次画素位移量。 13.如申请专利范围第9项所记载之应用于光学轨迹 导航元件之次画素位移量侦测方法,还包含下列步 骤: 将第一类计算参考点之二元一次方程式的系数相 加,并产生第一类二元一次方程式; 将第二类计算参考点之二元一次方程式的系数相 加,并产生第二类二元一次方程式;以及 根据前述第一类二元一次方程式与第二类二元一 次方程式求出前述次画素位移量。 图式简单说明: 图1显示习知应用光学轨迹导航元件之次画素位移 量侦测方法之影像的例子。 图2为关联性値位置示意图。 图3为二次表面示意图。 图4所示为位置与亮度的关系图,其中横轴为x位置 、纵轴为亮度。 图5所示为本发明应用于光学轨迹导航元件之次画 素位移量侦测方法的流程图。
地址 新竹县科学工业园区创新一路十九号