唯读记忆体的制造方法

摘要

一种唯读记忆体的制造方法，此方法系于一基底上形成电子捕捉层结构，再图案化电子捕捉层结构以形成复数个开口。接着，进行第一离子植入制程以于开口中的基底表面形成第一掺杂区，再进行第二离子植入制程，以于开口中的基底中形成第二掺杂区，其中第一掺杂区的掺杂深度小于第二掺杂区的掺杂深度，然后，于开口中的基底表面形成一埋入式汲极绝缘层。