沉积氧化矽于大面积基板上之方法与设备

摘要

一种用来以至少每分钟3000埃()的速率来将一介电物质沉积到一至少约0.35平方公尺的大面积基板上的方法及设备被提供。在一实施例中，该介电物质为氧化矽。一种大面积基板亦被提供，其具有一层介电物质被沉积于其上，该介电物质层是利用一可达到每分钟超过3000埃的沉积速率的处理来沉积的，以及一种制造该大面积基板的处理室亦被提供。