光触媒玻璃之制造方法

摘要

本发明系关于一种光触媒玻璃之制造方法，尤其系指一种可以产生自我清洁效果的光触媒玻璃之制造方法者。其乃是藉由真空溅镀之方法于玻璃之表面镀上二氧化钛之薄膜，其真空溅镀时之操作压力为1×10^–3mb～3×10^–3mb，通入之气体为280～350sccm之氩气、150～260sccm之氧气、5～20sccm之氮气，所产生之膜厚为100～200nm，镀膜之辐射率为0.75～0.9，经热处理过程，将镀膜结晶组织调整以发挥光触媒性能。