发明名称 用于制造高折射率光学层的蒸气沈积材料
摘要 本发明系关于一种用于制造高折射率光学层之蒸气沉积材料,其包括莫耳比为从4:1至1:4之氧化钛和氧化镱;及有关彼之制造方法,与彼之用途。
申请公布号 TW200427645 申请公布日期 2004.12.16
申请号 TW093103639 申请日期 2004.02.16
申请人 麦克专利有限公司 发明人 马丁 佛瑞兹;雷纳 多布罗斯基;伍威 安乐斯
分类号 C03C17/245 主分类号 C03C17/245
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 德国