发明名称 制造LCD用正型光阻组成物及形成光阻图型之方法POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURING LCD AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
摘要 本发明之目的在提供,可达成DOF特性之提升的正型光阻组成物,及形成光阻图型之方法。该正型光阻组成物系其特征为:含有(A)硷可溶性树脂,(B)二叠氮酯化物,(C)下述一般式(III)之分子量1000以下的含酚式羟基之化合物,以及(D)有机溶剂而成的制造LCD用正型光阻组成物。093114317-p01.bmp【式中R^21至R^28各自独立表氢原子、卤素原子、碳原子数1至6之烷基、碳原子数1至6之烷氧基或碳原子数3至6之环烷基;R^29至R^32各自独立表氢原子或碳原子数1至6之烷基;e、f及h各表1至3之整数;e、f或h系3时各无R^23、R^26或R^28;m表1至5之整数。】
申请公布号 TW200428150 申请公布日期 2004.12.16
申请号 TW093114317 申请日期 2004.05.20
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 栗原政树;山口敏弘;新仓聪
分类号 G03F7/039 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本