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具有化学式I或II之化合物093103971-p01.bmp其中R1是C1–C10卤烷磺醯基、卤苯磺醯基、C2–C10卤烷磺醯基、卤苯甲醯基，R2是卤素或C1–C10卤烷基，Ar1是苯基、联苯基、茀基、基、基、菲基或杂芳基(所有前者被任择地取代)，Ar’1是(例如)伸苯基、伸基、伸二苯基、伸杂芳基、氧联苯基、伸苯基–D–D1–D–伸苯基、或–Ar”1–A1–Y1–A1–Ar”1–基团(其中这些基团可任择地被取代)、Ar”1是伸苯基、伸基、伸基、伸菲基或伸杂芳基(所有前者被任择地取代)，A1是(例如)一个直接键结、–O–、–S–、或–NR6–，Y1是(例如)C1–C18伸烷基，X是卤素，D是–O–、–S–、或–NR6–，D1是(例如)C1–C18伸烷基，此等化合物是特别适合供用于ArF阻蚀剂技术中做为光潜酸。093103971-p01.bmp |
