发明名称 |
微影装置,元件制造方法及基板架 |
摘要 |
本发明提供一种基板架,具有一高度不小于100um的薄板及至少10真空埠,配置在一区域延伸至该基板的半径的三分之二。藉此凹晶圆可有效地由产生一初始真空在一区域钳着,其用力钳着以使晶圆变平且容许初始真空以加深直至该晶圆完全被钳着。 |
申请公布号 |
TW200428156 |
申请公布日期 |
2004.12.16 |
申请号 |
TW092136153 |
申请日期 |
2003.12.19 |
申请人 |
ASML公司 |
发明人 |
罗博特 尼可丹 贾库巴 范 巴利高伊;ROBERTUS NICODEMUS JACOBUS;玛堤纳 爱基 威兰 邱派斯;派特 琼汉斯 哲特迪 枚捷;GERTRUDIS;捷德斯 派特拉 美希 范 努耐;MATTHIJS;琼斯特 捷恩 欧毕登 |
分类号 |
G03F7/20;H01L21/027;H01L21/68 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
荷兰 |