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发明名称
经氟化之矽聚合物及包括该聚合物之光阻剂
摘要
本发明提供光可成像组成物，该光可成像组成物包含具有指定的氟原子对矽原子比例之矽聚合物。本发明较佳的光阻剂可对电浆蚀刻剂展现增强的耐性。093104418-p01.bmp
申请公布号
TW200428136
申请公布日期
2004.12.16
申请号
TW093104418
申请日期
2004.02.23
申请人
罗门哈斯电子材料有限公司
发明人
卡纳贝萨 塞巴地;贝克利;弗勒斯 贾哈
分类号
G03F7/004;C08G77/04
主分类号
G03F7/004
代理机构
代理人
洪武雄;陈昭诚
主权项
地址
美国
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