| 摘要 |
本发明揭示一种光学用薄膜，其系除了有效防止PDP、CRT、LCD等之影像显示元件表面的光反射，并且具有极佳的耐擦伤性及光线透过性之外，层间密着性良好，同时制造成本低。此薄膜系于基材薄膜之至少一侧表面，构造上依序积层：(A)一高折射率硬质涂布层，其折射率为1.60～1.75之范围、厚度为2～20μm，包含：(a)长轴平均粒径为0.05～10μm，且平均纵横比为3～100之针状已掺杂锑的氧化锡；(b)其他至少一种的金属氧化物；(c)利用电离放射线所形成的硬化物；及(B)一低折射率层，其折射率为1.30～1.45之范围、厚度为40～200nm。 |
