发明名称 | 磁记录存储器介质用微晶玻璃基片材料及制备方法 | ||
摘要 | 本发明涉及一种磁记录存储器介质用的玻璃基片材料及其制造方法,特别是一种双层结构的磁记录存储器介质用纳米相微晶玻璃基片材料及制备方法。本发明的一种磁记录存储器介质用纳米相微晶玻璃基片材料,由基体及其表面涂层构成,其特征在于基体为微晶玻璃;涂层为玻璃釉料,其厚度为60μm-100μm。本发明的微晶玻璃基片材料的制备方法包括三个步骤:玻璃釉料的制备、微晶玻璃基体材料的制备,将玻璃釉料涂覆于基体上形成双层结构的微晶玻璃基片材料。玻璃釉料的涂覆于微晶玻璃表面,舍去了网纹加工成膜工艺,有利于网纹加工;又因压应力提高了整体基板的机械强度;因表面的涂层少含或基本不含若干轻元素,大大提高防污染记忆膜的能力;由于涂层硬度较低,故易研磨。在进行表面处理抛光后,其表面粗糙度一般可达3左右。 | ||
申请公布号 | CN1554608A | 申请公布日期 | 2004.12.15 |
申请号 | CN200310122761.6 | 申请日期 | 2003.12.23 |
申请人 | 上海大学 | 发明人 | 张建成;姜盛瑜;王华;顾峰;沈悦 |
分类号 | C03C10/14;C03C3/076 | 主分类号 | C03C10/14 |
代理机构 | 上海上大专利事务所 | 代理人 | 顾勇华 |
主权项 | 1.一种磁记录存储器介质用微晶玻璃基片材料,由基体(1)及其表面涂层(2)构成,其特征在于基体(1)采用微晶玻璃;涂层(2)采用玻璃釉料,其厚度为60μm-100μm。 | ||
地址 | 200072上海市闸北区延长路149号 |