| 发明名称 | 具有独立限位环和多区域压力控制结构的气动隔膜式抛光头及其使用方法 | ||
| 摘要 | 提供了一种基片平面化装置和方法。所述装置(101)包括支架(202)，其具有用于将基片(230)容纳于其上的板(212)、用于沿预定方向压迫板的第一腔(238)、连接着板(212)的外边缘的垫片(260)、通过垫片(260)连接着板并且与板之间相隔着垫片厚度的膜片(250)、形成在膜片与板之间用于沿另一预定方向压迫板的第二腔(251)。所述方法包括利用第一压力抵靠着抛光垫(226)按压基片(244)的外周边缘，利用第二压力抵靠着抛光垫(226)按压基片(244)的内侧部分。 | ||
| 申请公布号 | CN1179821C | 申请公布日期 | 2004.12.15 |
| 申请号 | CN01812171.3 | 申请日期 | 2001.05.11 |
| 申请人 | 多平面技术公司 | 发明人 | 梶原治郎;格拉尔德·S·莫洛尼;王惠明;戴维·A·汉森;亚历松德多·雷耶斯 |
| 分类号 | B24B37/04;B24B41/06;B24B49/16 | 主分类号 | B24B37/04 |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 刘兴鹏 |
| 主权项 | 1.一种用于将基片保持在基片抛光装置上的支架，包括：壳体；限位环，其柔性连接着所述壳体；第一压力腔，其用于施加第一力，以便沿第一预定方向相对于所述壳体推动所述限位环；托架板，其具有外表面，并且柔性连接着所述壳体；第二压力腔，其用于施加第二力，以便沿第二预定方向相对于所述壳体推动所述限位环；所述限位环环绕着所述托架板的一部分，并且限定出一个圆形凹槽；垫片，其在所述限位环圆形凹槽中连接着所述托架板外表面的外周边缘；膜片，其通过所述垫片连接着所述托架板，并且布置在所述圆形凹槽中，所述膜片与所述托架板外表面之间相隔着所述垫片的厚度；以及第三压力腔，其形成在所述膜片与所述托架板外表面之间，用于施加第三力，以便沿第三预定方向相对于所述壳体推动所述限位环。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||