| 发明名称 | 抛光组合物 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种含磨料和水的抛光组合物，其中所述磨料的粒度分布是：(1)D90与D50的比值(D90/D50)为1.3-3.0，(2)D50为10-600纳米，其中所述的D90定义为累积粒度分布中在数目基础上从小粒度一侧计数至90％的粒度，D50定义为累积粒度分布中在数目基础上从小粒度一侧计数至50％的粒度。 | ||
| 申请公布号 | CN1180043C | 申请公布日期 | 2004.12.15 |
| 申请号 | CN01116934.6 | 申请日期 | 2001.05.11 |
| 申请人 | 花王株式会社 | 发明人 | 内藤宏一;藤井滋夫 |
| 分类号 | C09G1/02 | 主分类号 | C09G1/02 |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 张宜红 |
| 主权项 | 1.一种含磨料和水的抛光组合物，其中所述的磨料的粒度分布是：(1)D90与D50的比值为1.3-3.0，(2)D50是10-600纳米，其中D90定义为累积粒度分布中在数目基础上从小粒度一侧计数至90％的粒度，D50定义为累积粒度分布中在数目基础上从小粒度一侧计数至50％的粒度；其中所述磨料是胶态氧化硅。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||