发明名称 |
光记录介质和利用光记录介质的记录和/或重放方法及装置 |
摘要 |
一种能够以光子模式进行线性记录的光记录介质。一种根据光照改变分子取向从而显示出双折射特性的有机材料被用作记录材料。例如,具有作为记录材料的有机材料的记录层随有机材料的分子取向的变化而改变双折射率,反式-顺式重排引起有机材料分子取向的变化。利用有机材料的分子取向变化的记录系统具有线性特性,并根据例如取向的程度或角度给出不同的输出,从而能够进行多值记录。 |
申请公布号 |
CN1180410C |
申请公布日期 |
2004.12.15 |
申请号 |
CN00118747.3 |
申请日期 |
2000.06.23 |
申请人 |
索尼株式会社;索尼国际(欧洲)有限公司 |
发明人 |
山本真伸;安田章夫;佐飛裕一 |
分类号 |
G11B7/24 |
主分类号 |
G11B7/24 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
王以平 |
主权项 |
1.一种光记录介质,包括记录层,记录层包括一种有机材料,有机材料的分子取向随偏振光的照射而变化;基片,所说的记录层形成在所说的基片上,在所说的基片面向记录层的一侧上有导向凹槽和/或凹坑;在基片和记录层之间形成在所说的基片上的第一介质薄膜;形成在所说的记录层上的第二介质薄膜;形成在所说的第二介质层上的反射膜;其中对于完全取向时所说的记录层的双折射率Δn以及对于重放光的波长λ,记录层的厚度不大于λ/4Δn,以及其中所说的第一和第二介质薄膜中每一个的折射率与基片的折射率不同。 |
地址 |
日本东京 |