| 主权项 |
1.一种曝光机工件之定位装置,主要系装置在曝光机吸附盘底下,其包含有:一底座;至少一第一浮动支撑装置,系装置于底座与吸附盘近中央位置;若干个分置于底座四周用以支持吸附盘之第二浮动支撑装置。2.如申请专利范围第1项所述之曝光机工件之定位装置,其中,该第一浮动支撑装置系选自压缩弹簧或优力胶。3.如申请专利范围第1项所述之曝光机工件之定位装置,其中,该第二浮动支撑装置为一板状弹簧片。4.如申请专利范围第1项所述之曝光机工件之定位装置,其中,第二浮动支撑装置更具有一支撑臂与吸附磐固定。5.如申请专利范围第1项所述之曝光机工件之定位装置,其进一步更包含有一动力源被装置在底座,以推动底座上、下移动者。6.如申请专利范围第1项所述之曝光机工件之定位装置,其中,该底座与第二浮动支撑装置之结合端间具有一反冲座。7.如申请专利范围第1项所述之曝光机工件之定位装置,其中,更包含有一设在底座下方之导轨机构,该导轨机构则包含至少一个以上固设于底座下方之固定座、与前述固定座位置对称固设于机台下方之轴承以及活设于轴承中之导柱,而导柱系于上端与固定座接合,并可随动力源于轴承孔中轴向位移运动。8.如申请专利范围第7项所述之曝光机工件之定位装置,其中,轴承为直线轴承。9.如申请专利范围第5项所述之曝光机工件之定位装置,其中,该动力源系选自气压缸或油压缸之一种者。图式简单说明:第一图:系本创作之大部分解立体示意图。第二图:系本创作之浮动装置组合立体示意图。第三图:系本创作之浮动装置与光罩接合中之实施例示意简图。第四图:系本创作之浮动装置与光罩完全接合状态实施例示意简图。 |
