| 主权项 |
1.一种制备2-卤-5-卤甲基 啶化合物之方法,包括:将式(Ⅱ)之2-卤-2-卤甲基醛或酮:于温度为30℃至300℃及于不存在或存在惰性溶剂下,进行环化缩合反应,以生成式(Ⅲ)之2-卤-5-卤甲基啶化合物:(上述各式中,X为C或Br,Y为氰基或胺羰基,而R、R1.R2及R3各别为H,C1-C5烷基,或未经取代或经卤原子取代之苯基)。2.如申请专利范围第1项之方法,其中Y为氰基者。3.如申请专利范围第1项之方法,其中Y为胺羰基者。4.如申请专利范围第1项之方法,其中R、R1.R2及R3各别为H或C1-C5烷基者。5.如申请专利范围第2项之方法,其中X为C ,且R、R1.R2及R3各别为H或C1-C5烷基者。6.如申请专利范围第3项之方法,其中X为C ,且R、R1.R2及R3各别为H或C1-C5烷基者。7.如申请专利范围第1项之方法,其中该环化缩合反应乃在无水卤化氢之存在下进行者。8.如申请专利范围第1项之方法,又包括该环化缩合后之分离2-卤-5-卤甲基 啶化合物之步骤者。9.如申请专利范围第8项之方法,其中X为C ,且R、R1.R2及R3各别为H,又其中所分离之 啶化合物为2-氯-5-氯甲基 啶者。10.如申请专利范围第9项之方法,其中Y为氰基者。11.如申请专利范围第9项之方法,其中Y为胺羰基者。12.如申请专利范围第1项之方法,其中该2-卤-2-卤甲基醛或酮乃由式(I)之,-不饱和醛或酮:(式中,Y、R、R1.R2及R3具有如同申请专利范围第1项所述之意义)于温度为-20℃至100℃及于不存在或存在惰性溶剂下,进行卤化而制成。13.如申请专利范围第12项之方法,其中Y为氰基者。14.如申请专利范围第12项之方法,其中Y为胺羰基者。15.如申请专利范围第12项之方法,其中X为C 且R、R1.R2及R3各别为-H或C1-C5烷基者。16.如申请专利范围第15项之方法,某中Y为氰基,R、R1、R2.R3各为H,而所生成之2-卤-5-卤甲基啶为2-氯-5-氯甲基 啶者。17.如申请专利范围第15项之方法,其中Y为胺羰基,R、R1.R2.R3各为H,而所生成之2-卤-5-卤甲基啶为2-氨-5-氯甲基 啶者。18.如申请专利范围第16项之方法,包括分离2-氯-5-氯甲基 啶之步骤者。19.如申请专利范围第17项之方法,包括分离2-氯-5-氯甲 |
