| 主权项 |
1.一种由源自制造工厂之以乙烯氯化物为基质之聚合物之水溶液胶乳中移除一种以上之残留单体之连续方法,其特征为该胶乳藉由流经一热交换器而被处理,该热交换器包括一密室1,它被分隔成两个个别重叠部份,未阻塞之上部份3被置于0.01至0.99巴之减压,且与工厂相通以回收一种以上之残留单体,而下部份4系配备有一隔板9,用以分隔两分离之延伸与邻接之回路10与11,回路之一10系被待处理之胶乳所横越,且经由其顶端与其全部之路径,与密室之上部份3相通,而另一回路11,则与密室之上部份3隔绝,且被维持于40至100℃之热传流体所横越,其中胶乳流经密室之预定时间为1至30分钟,而其流速为每小时1至10立方米。2.如申请专利范围第1项之方法,其中为待处理之胶乳与热传流体以相反方向横越彼等之个别回路。3.如申请专利范围第1项之方法,其中胶乳在被送入密室之前,宜藉与由该密室所取出之处理过的胶乳进行热交换,以预热至30至90℃。4.如申请专利范围第1项之方法,其中热传流体为水。5.一种实施如申请专利范围第1至4项之任一项之方法之装置,其特征为其包括一密室1,它被分隔成两个个别重叠部份,未阻塞之上部份3连结一真空源而与工厂相通以回收一种以上之残留单体,且下部份4系配备有一隔板9,用以分隔两分离之延伸与邻接之回路10与11,其中两回路藉被安置在密室下部份呈双螺旋形式之隔板所分隔,而回路之一10系被待处理之胶乳横越,经由其顶端及其全部之路径,与密室之上部份3相通,而另一回路11,则被热传流体横越,且与密室之上部份3相隔绝。6.如申请专利范围第5项之装置,其中介于两邻接回路间之热交换表面积为10至60平方米。7.如申请专利范围第5项之装置,其中,企求被待处理之胶乳所横越之回路乃藉由工具而被安装于该装置之下部份,该工具能够使周期性泄放进行,以移除可能存在于胶乳 |
