发明名称 |
连续铸造期间用电磁场控制金属流动的方法和装置 |
摘要 |
一种用于金属连续或半连续铸造的方法和装置。被供应到一个铸型中的热金属熔化物一次液流(P)受到至少一个静态或周期低频磁场的影响,以便制动和劈开所述一次液流并在长形铸件的未凝固部分形成一个受控的二次液流流型。磁场的磁通量密度根据浇注条件进行控制。铸型中的二次液流(M,U,C1,C2,c3,c4,G1,G2,g3,g4,o1,o2,o3,o4)在整个浇注期间被监视,依据测出的液流变化将被监视液流所测出的变化信息送入控制单元(44),在那里对变化进行计算,然后根据这一计算调节磁通量密度,以便保持或调节所述受控二次液流。 |
申请公布号 |
CN1178758C |
申请公布日期 |
2004.12.08 |
申请号 |
CN98810685.X |
申请日期 |
1998.08.31 |
申请人 |
ABB股份有限公司 |
发明人 |
J·-E·埃里克森;M·哈勒费特;S·科尔伯格;C·彼得索恩;G·塔尔贝克 |
分类号 |
B22D11/10;//B22D27/02 |
主分类号 |
B22D11/10 |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
张天安;黄力行 |
主权项 |
1.一种用于金属连续或半连续铸造的方法,其中一个被供应到铸型中的热金属熔化物一次液流(P)受到至少一个静态或周期低频磁场作用,以便制动和劈开所述一次液流并在长形铸件的未凝固部分形成一个控制的二次液流流型,而且在此处磁场的磁通量密度根据浇注条件进行控制,其特征为,铸型中沿着和邻近弯液面处的二次液流(M,U,C1,C2,c3,c4,G1,G2,g3,g4,O1,O2,o3,o4)的流动速度(Vm)在整个浇注期间被监视,而且依据测出的液流变化将被监视液流所测出的变化的信息送入控制单元,在那里对弯液面处的液流速度(Vm)的变化进行计算,然后根据这一计算在线地调节磁通量密度,以便保持或调节所述受控的沿着和邻近弯液面处的二次液流的流动速度(Vm)在一个预定的流动速度范围。 |
地址 |
瑞典韦斯特罗斯 |